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“熱淬火”技術(shù)能切換量子材料導(dǎo)電狀態(tài)
有望將電子產(chǎn)品運行速度提升千倍


美國東北大學(xué)與布朗大學(xué)等機構(gòu)科學(xué)家通過精確控制加熱和冷卻,即所謂的“熱淬火”技術(shù),讓量子材料在導(dǎo)電與絕緣狀態(tài)間精準切換。這項發(fā)表於最新一期《自然·物理學(xué)》的研究,將為現(xiàn)有電子技術(shù)帶來巨大進步,未來採用量子材料的處理器,運行速度有望達到現(xiàn)有硅基芯片的千倍以上。
研究團隊將1T-二硫化鉭(1T-TaS2)這種特殊材料置於特定光照條件下,在接近室溫的環(huán)境中,首次實現(xiàn)了可穩(wěn)定維持數(shù)月的“隱藏金屬態(tài)”。這種材料如同電子世界的“變形金剛”,既能像銅線般導(dǎo)電,又能像橡膠般絕緣,且狀態(tài)轉(zhuǎn)換隻需瞬間完成。
量子材料在金屬導(dǎo)電狀態(tài)和絕緣狀態(tài)之間快速切換,這種效應(yīng)就像晶體管切換電子信號。當(dāng)前處理器的工作頻率在千兆赫級別,而量子材料的應(yīng)用可能直接將這個數(shù)字提升千倍,達到太赫茲級別。
過去科學(xué)家面臨兩大難題:一是材料狀態(tài)轉(zhuǎn)換難以持久,往往只能維持幾毫秒﹔二是需要在接近絕對零度的極端環(huán)境下操作。最新研究不僅將操作溫度提升到實用范圍,更讓材料狀態(tài)可穩(wěn)定保持數(shù)月。
傳統(tǒng)電子設(shè)備需要同時使用導(dǎo)電和絕緣材料,並精確控制兩者界面。最新研究意味著,未來僅需一種材料,通過光照調(diào)控就能實現(xiàn)全部功能。
研究團隊強調(diào),現(xiàn)有半導(dǎo)體三維堆疊技術(shù)已接近物理極限,為進一步提升信息存儲能力和工作速度,需要全新的范式。量子計算是解決途徑之一,材料創(chuàng)新則是另一種解決途徑,這正是最新研究的真正意義所在。(記者劉霞)
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